2016年6月5日 回答：研磨制程根據(jù)研磨對(duì)象不同主要分為:硅研磨(Poly CMP)、硅氧化物研磨(Silicon oxide CMP)、碳化硅研磨(Silicon carbide CMP)、鎢研磨(W CMP)和銅研磨(Cu CMP)。

2020年3月2日 四十五所作為國(guó)內(nèi)的濕化學(xué)設(shè)備供應(yīng)商之一,其設(shè)備涵蓋了半導(dǎo)體制造幾乎所有的濕化學(xué)制程,包括:金屬刻蝕、深硅刻蝕、二氧化硅刻蝕、RCA清洗、酸洗、有機(jī)清洗、

北京華沛智同科技發(fā)展有限公司專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)(供應(yīng))銷(xiāo)售CMP Tribo臺(tái)式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備,公司不僅具有國(guó)內(nèi)外精湛的技術(shù)水平,更有良好的售后服務(wù)和優(yōu)質(zhì)的解決方案,歡迎您來(lái)電咨詢(xún)此產(chǎn)品具體參數(shù)及價(jià)格

2021年3月31日 項(xiàng)目名稱(chēng):氧化膜化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備招標(biāo)項(xiàng)目編號(hào): *** 招標(biāo)范圍:采購(gòu)氧化膜化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備招標(biāo)機(jī)構(gòu): (略) 有限公司招標(biāo)人: (略) 華力 (略) 開(kāi)標(biāo)時(shí)間: *** * : *

全自動(dòng)快速研磨儀,測(cè)博生物專(zhuān)注生產(chǎn)優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品,品類(lèi)齊全,質(zhì)量?jī)?yōu)異,好產(chǎn)品,好服務(wù),交貨及時(shí),原廠直銷(xiāo),選我們對(duì)了!

2016年7月5日 CMP Tribo 臺(tái)式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備,The Tribo CMP system is a precision engineered, bench top solution designed with one thing in mind the research of wafer processes, i

摘要 本實(shí)用新型涉及一種化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備,包括:研磨臺(tái)位于研磨臺(tái)表面的研磨墊,所述研磨墊具有一偵測(cè)窗口位于所述研磨臺(tái)內(nèi)的沖洗管路,所述偵測(cè)窗口位于所述沖洗管路的沖洗

2021年1月4日 研 磨性能的方法包括:為研磨墊提供 U 型細(xì)磨墊 使修整部件僅僅沿固定修整方向在所述 U 型細(xì)磨 墊上進(jìn)行修整測(cè)試 U 型緩沖墊的彎曲部分的抗 彎強(qiáng)度以及根據(jù) U

介紹了電子電鍍中的若干新工藝新技術(shù),如芯片電鍍、電化學(xué)機(jī)械研磨、微機(jī)電系統(tǒng)電鍍、不溶性陽(yáng)極電鍍銅、鍍鉑鈮電極以及無(wú)鉛無(wú)鎘中磷光亮化學(xué)鍍鎳、堿性蝕刻液再生和銅回收系

為您找到2家的一種工業(yè)化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備廠家、優(yōu)質(zhì)批發(fā)/供應(yīng)商,海量企業(yè)黃頁(yè),包含廠家工商信息、主營(yíng)產(chǎn)品和詳細(xì)的商品參數(shù)、圖片、報(bào)價(jià)、供求信息等。

職位類(lèi)別:其他 招聘人數(shù):4人 工作經(jīng)驗(yàn):不限 語(yǔ)言要求:不限 需求專(zhuān)業(yè):【本科】機(jī)械電子工程、機(jī)械設(shè)計(jì)制造及其自動(dòng)化、【碩士】動(dòng)力機(jī)械及工程、機(jī)械制造及其自動(dòng)化、機(jī)械工程

2020年12月9日 化學(xué)機(jī)械研磨技術(shù)(化學(xué)機(jī)械拋光, CMP)兼具有研磨性物質(zhì)的機(jī)械式研磨與酸堿溶液的化學(xué)式研磨兩種作用,可以使晶圓表面達(dá)到全面性的平坦化,以利后續(xù)薄膜沉積之進(jìn)行

2020年3月2日 四十五所作為國(guó)內(nèi)的濕化學(xué)設(shè)備供應(yīng)商之一,其設(shè)備涵蓋了半導(dǎo)體制造幾乎所有的濕化學(xué)制程,包括:金屬刻蝕、深硅刻蝕、二氧化硅刻蝕、RCA清洗、酸洗、有機(jī)清洗、去膠、顯影、去蠟、制

全自動(dòng)研磨機(jī),自動(dòng)鋸片研磨機(jī),全自動(dòng)刀具,生刀具,產(chǎn)業(yè)專(zhuān)家,專(zhuān)業(yè)制造商,專(zhuān)業(yè)研磨設(shè)備,精密研磨業(yè),邁向自動(dòng)化,不可或缺

2016年1月23日 此外,還提出了一種化學(xué)機(jī)械研磨去除率計(jì)算的 設(shè)備。本發(fā)明提出的上述方案,通過(guò)分析影響研磨 去除率的因素,綜合考慮晶圓、粒子、研磨墊及研 磨液四體相互作用關(guān)

2012年7月15日 內(nèi)容提示: 芯片黏貼研磨拋光系統(tǒng)( CMP ) 儀器介紹 一.目的 化學(xué)機(jī)械研磨是一個(gè)移除制程 它借著結(jié)合化學(xué)反應(yīng)和機(jī)械研磨達(dá)到其目的。 并且我們使用它在半導(dǎo)的薄膜

發(fā)明名稱(chēng) 一種化學(xué)機(jī)械研磨裝置及方法 (57)摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種化學(xué)機(jī)械研磨裝置及方 法,包括:研磨平臺(tái)以及,溫控機(jī)構(gòu),與所述 研磨平臺(tái)連接,用于對(duì)所述研磨平臺(tái)的表面溫度

2019年7月19日 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備。 背景技術(shù): 集成電路的發(fā)展日益復(fù)雜,在集成電路的制造過(guò)程中,半導(dǎo)體基底表面的平坦性具有相當(dāng)?shù)?/p>在線咨詢(xún)

2018年12月18日 化學(xué) 詩(shī)歌 行業(yè)資料 工作總結(jié) 生活常識(shí) 教育文庫(kù) 學(xué)術(shù)專(zhuān)區(qū) 演講稿 合同范文 心得體會(huì) 策劃書(shū) 禮儀 散文 筆試題 英語(yǔ) 求職攻略 職業(yè)規(guī)劃 個(gè)人簡(jiǎn)歷 工作范文 公

2021年1月1日 (51)Int.CI B24B37/005 權(quán)利要求說(shuō)明書(shū) 說(shuō)明書(shū) 幅圖 (54)發(fā)明名稱(chēng) 化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備 (57)摘要 化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備包括:布置在機(jī)械臂保 持部分上的反向傳感器安裝

制造單晶柱或晶圓用的研磨設(shè)備 化學(xué)機(jī)械研磨機(jī) 研磨機(jī) 13% 0:品牌類(lèi)型1:出口享惠情況2:用途3:功能4:品牌(中文及外文名稱(chēng))5:型號(hào)6:GTIN7:CAS8:其他 臺(tái) 無(wú) 無(wú) 0% 30%

2019年7月19日 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備。 背景技術(shù): 集成電路的發(fā)展日益復(fù)雜,在集成電路的制造過(guò)程中,半導(dǎo)體基底表面的平坦性具有相當(dāng)?shù)?/p>在線咨詢(xún)